16b硅片研磨机的技术参数表

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化学机械研磨是当今能够提供全局平坦化的技术,其抛光机理的研究是当前的热点。硅片表面Haze值是描述硅片表面粗糙度的一个重要参数,同时给出了硅片表面Haze值的定摘要: 化学机械研磨是现今硅片加工制造的重要技术,其较传统研磨方法能使硅片表面更加平整,精密度更高而损伤更低,故受到人们的广泛重视.为了今后得到悬

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【摘要】:在化学机械研磨过程中,对半导体硅片的质量影响因素主要有研磨工艺(研磨盘压力、转速、浆料流量等)和化学机械研磨液的成分。本论文研究了硅锭直径从 20 世纪 50 年代的初期的不到25mm 增加到现在的 300mm 和 400mm, 随着硅片直径的不断扩大,其厚度、面积、重量等技术参数都不断增大。 下图主要

3)磨片的主要技术参数 ? 4)高质量磨片的技术条件 ? 5)研磨机组成与原理 ? 6)磨片的工艺过程 ? 7)主要影响因素 ? 8)磨片中产生的缺陷 1)硅片研磨 ? 磨片硅片研磨机,广泛用于硅片研磨、硅片抛光、锌合金研磨抛光、光扦接头、不锈钢平面抛光、LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、诸片、模具、导光板等各种材料的单面

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